Se trata de la nueva marca de cuidado facial exclusiva de GA.MA, cuyo componente principal es el ácido hialurónico. Debuta en Chile con su kit de 3 pasos: limpiar, tonificar y humectar.
En su constante búsqueda de ofrecer los mejores productos y la última tecnología del mundo de la belleza, GA.MA Chile desarrolló SKIN LAB, marca exclusiva de cuidado facial para piel normal a mixta, con un alto porcentaje de ácido hialurónico, que rehidrata en profundidad la epidermis dejando la piel más tersa, aumentando su grosor y volumen y disminuyendo visiblemente las arrugas. Además, todos los productos son libres de fragancias y parabenos.
La primera línea de SKIN LAB corresponde a una sencilla rutina de 3 pasos para limpiar, tonificar y humectar, con los siguientes productos:
PASO 1, LIMPIAR. Jabón Líquido de Rostro con ácido hialurónico, aloe vera y extracto de manzanilla, que mantiene equilibrado el pH. Se recomienda lavar mañana y noche con agua tibia.
PASO 2, TONIFICAR. La Loción Clarificante remueve las impurezas, exceso de grasa y células muertas, dejando la piel completamente renovada. Contiene extracto de avellana activo y ácido hialurónico.
PASO 3, HUMECTAR. La Loción Hidratante proporciona todo lo que la piel necesita para mantener un nivel óptimo de hidratación. Retrasa visiblemente el envejecimiento cutáneo gracias al ácido hialurónico y a sus ingredientes activos: karité, úrea, extracto de avena y extracto de pepino.
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